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一、在商業(yè)和工業(yè)企業(yè)用氣場(chǎng)所設(shè)置燃?xì)鈿怏w報(bào)警器控制系統(tǒng)時(shí)，可選擇集中燃?xì)鈿怏w報(bào)警器控制系統(tǒng)；對(duì)面積小于80㎡的場(chǎng)所，也可選擇獨(dú)立燃?xì)鈿怏w報(bào)警器控制系統(tǒng)。
二、在安裝可燃?xì)怏w探測(cè)器、不完全燃燒探測(cè)器或復(fù)合氣體探測(cè)器的房間內(nèi)，當(dāng)任意兩點(diǎn)間的水平距離小于8M時(shí)，可設(shè)1個(gè)氣體探測(cè)器并應(yīng)符合表1的規(guī)定；否則可設(shè)置兩個(gè)或多個(gè)可燃?xì)怏w探測(cè)器并應(yīng)符合表2的規(guī)定。
表1 單個(gè)探測(cè)器的設(shè)置（m）
燃?xì)夥N類或相對(duì)密度 | 探測(cè)器與釋放源中心水平距離L1 | 探測(cè)器與地面距離H | 探測(cè)器與頂棚距離D | 探測(cè)器與通風(fēng)口及門窗距離L2 |
液化石油氣或相對(duì)密度大于1的燃?xì)?/span> | 1≤L1≤4 | H≤0.3 | - | 0.5≤L2 |
天然氣或相對(duì)密度小于1的燃?xì)?/span> | 1≤L1≤8 | - | D≤0.3 | 0.5≤L2 |
一氧化碳 | 1≤L1≤8 | - | D≤0.3 | 0.5≤L2 |
表2 多個(gè)探測(cè)器的設(shè)置（m）
燃?xì)夥N類或相對(duì)密度 | 探測(cè)器與釋放源中心水平距離L1 | 兩探測(cè)器間的距離F | 探測(cè)器與地面距離H | 探測(cè)器與頂棚距離D | 探測(cè)器與通風(fēng)口及門窗距離L2 |
液化石油氣或相對(duì)密度大于1的燃?xì)?/span> | 1≤L1≤3 | F≤6 | H≤0.3 | - | 0.5≤L2 |
天然氣或相對(duì)密度小于1的燃?xì)?/span> | 1≤L1≤7.5 | F≤15 | - | D≤0.3 | 0.5≤L2 |
一氧化碳 | 1≤L1≤7.5 | F≤15 | - | D≤0.3 | 0.5≤L2 |
三、當(dāng)氣源為相對(duì)密度小于1的燃?xì)馇裔尫旁淳囗斉锎怪本嚯x超過(guò)4m時(shí)，應(yīng)設(shè)置集氣罩或分層設(shè)置氣體探測(cè)器，應(yīng)符合下列規(guī)定：
1.當(dāng)設(shè)置集氣罩時(shí)，集氣罩宜設(shè)于釋放源上方4m處，集氣罩面積不得小于1m，裙邊高度不得小于0.1m，且探測(cè)器應(yīng)設(shè)于集氣罩內(nèi)；
2.當(dāng)不設(shè)置集氣罩時(shí)，應(yīng)兩層設(shè)置探測(cè)器，最上層氣體探測(cè)器距頂棚垂直距離小于0.3m；最下層探測(cè)器應(yīng)設(shè)于釋放源上方，且垂直距離不宜大于4m。
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